삼성전자가 세계 최대 규모의 반도체 생산시설인 평택캠퍼스 3라인을 본격 가동합니다.
삼성전자는 2020년 말부터 기초공사에 들어간 평택 3라인에 올해 7월부터 낸드플래시 양산 시설을 구축하고 웨이퍼 투입을 시작했다고 밝혔습니다.
삼성전자는 평택 3라인에 극자외선 공정 기반의 D램과 5나노 이하 파운드리 공정 등 다양한 첨단 생산시설을 구축할 계획입니다.

[ 이유진 기자 / ses@mk.co.kr ]

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