삼성전자, 평택에 최첨단 낸드플래시 생산라인 증설

삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 약 8조 원을 투자해 최첨단 낸드플래시 생산라인을 증설합니다.
지난 달 약 10조 원의 초미세 극자외선(EUV) 파운드리 라인을 증설하겠다고 밝힌 지 열흘 만에 또 투자 계획을 추가한 겁니다.
이번 추가 투자로 평택캠퍼스는 2015년 단지 조성을 위한 첫 삽을 뜬 지 5년 만에 메모리 반도체와 비메모리 반도체를 망라하는 최첨단 반도체 복합 생산기지로 거듭나게 됐습니다.