아이에스티이 “글로벌 반도체 장비 기업으로 도약”

조창현 아이에스티이 대표가 5일 서울 여의도에서 열린 기업공개(IPO) 기자간담회에서 회사 상장 배경과 비전을 설명하고 있다. <사진=아이에스티이>

“현재 주력인 반도체 세정장비(풉 클리너) 시장에서 기술 우위를 유지해나가는 한편, 이 시장보다 약 30배 규모로 차세대 반도체 핵심 공정 장비인 플라즈마 화학기상증착(PECVD) 장비 시장에 성공적으로 진입해 글로벌 반도체 장비 기업으로 도약하겠습니다.

”
조창현 아이에스티이(ISTE) 대표는 5일 서울 여의도에서 열린 기업공개(IPO) 기자간담회에서 이 같이 밝혔다.

아이에스티이는 2013년에 설립된 반도체 장비 전문기업이다.

특히 반도체 풉(Front Opening Unified Pod•FOUP) 클리너 장비 개발에 성공해 2016년부터 SK하이닉스에 풉 클리너를 공급하고 있다.

기존 장비들은 풉 커버와 바디를 한꺼번에 세정하고 건조시켰다.

아이에스티이는 분리 세정이 가능한 장비를 개발해 세정력과 건조 효율성, 생산 효율성을 높였다.

또한 패널 레벨 패키징(PLP)용 풉 클리너와 고대역폭메모리(HBM)용 풉 클리너를 개발해 고객사가 원하는 사양에 맞춰 기술 트렌드에 선제적으로 대응하고 있다.

조 대표는 “반도체 장비 국산화를 위해 업력을 쌓아왔는데, 과거 노력들이 최근 결실을 맺고 있다”며 “차별화된 기술력을 토대로 HBM용 풉 클리너를 국내 최초로 상용화하는 등 성과를 거두고 있다”고 설명했다.

조 대표는 기존 사업 외에도 차세대 반도체 공정용 장비인 PECVD 장비 연구개발을 통해 신규 사업을 추진하고 있다고 강조했다.

회사는 전문 연구인력과 국책 과제 수행을 통해 지난 2021년 전공정 핵심장비인 실리콘 카보나이트라이드(SiCN) PECVD 장비 국산화 개발에 성공했다.

SK하이닉스와 품질 테스트를 실시했으며, 통과 뒤 현재 본격 양산을 검증하고 있다.

이번 상장을 통해 확보한 공모자금도 생산능력 확장을 위한 신규 공장 부지 취득과 PECVD 장비 개발 및 사업화를 위한 운영 자금, 채무 상환 등에 활용할 예정이다.

조 대표는 “내년 SK하이닉스 메모리 공정에 공급할 예정으로, 현재 품질 테스트에서 유일하게 고객사의 요구치를 달성했다”며 “PECVD 시장에 성공적으로 진입해 새로운 성장동력을 확보하겠다”고 말했다.

한편, 아이에스티이는 2일부터 6일까지 기관투자자 대상 수요예측을 진행해 공모가를 확정한 다.

공모가 희망범위는 9700~1만1400원이다.

총 공모금액은 155~182억원이다.

이어 10~11일 일반 투자자 대상 공모주 청약을 진행한 뒤 오는 20일 코스닥 시장에 입성할 예정이다.

주관사는 KB증권이다.