삼성전자, GAA 기반 3나노 공정 양산 다음 주 발표

삼성전자가 세계 최초로 파운드리 3나노미터 공정 양산에 돌입합니다.
오늘(22일) 업계에 따르면 삼성전자는 다음 주 중 차세대 GAA 기반 3나노 반도체 공정 양산을 공식 발표할 것으로 알려졌습니다.
GAA는 기존 기술보다 칩 면적을 줄이고 소비 전력은 감소시키면서 성능은 높인 신기술입니다.

[ 윤형섭 기자 / yhs931@mk.co.kr ]