삼성전자가 회로선 사이의 간격이 10나노에 불과한 시스템 반도체 양산을 시작했습니다.
1나노는 10억분의 1m를 나타내는 단위로 10나노는 머리카락의 1만분의 1굵기에 해당합니다.
삼성전자는 지난해 모바일 애플리케이션 프로세서에서 업계 최초로 14나노 공정 양산을 시작한 데 이어 전체 시스템 반도체 업계에서도 가장 먼저 10나노 공정 양산에 돌입했습니다.

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